不锈钢电镀铬的溶液维护及操作明细如下:


1. 铬酐浓度


  其浓度在230~270g/L,维持较高的浓度,以保持较高的导电率,可通过较高的电流密度,以维持镀液的稳定,有较高的抗杂质能力。


2. 硫酸浓度


  硫酸浓度应保持与铬酐的浓度比值为100:1.当硫酸浓度的比值小于1时,会引起镀层在镀不上铬层处轻者呈现黄彩膜,即俗称“漏黄”,重者呈蓝膜,无铬层与未镀铬的交界处模糊。有铬层表面镀铬较厚处有微小圆形颗粒,镀层光亮度较差,比值进一步减少时,如0.5以下,分散能力恶化,镀不上铬的面积扩大,电流大些,面积甚至呈乌黑色烧焦状铬层。


  而硫酸的比值大于1至1.2以上时,镀层分散力也会恶化,但不出现“露黄”现象,此时,有铬层镀上处与未镀上处的交界线很明显。比值超过越大,则未镀上区域相应扩大,最终甚至完全镀不上铬,此时比值在大于2以上。为了降低硫酸浓度,要向镀层中加入碳酸钡,使形成硫酸钡沉淀,此时需要计算碳酸钡的用量,理论上碳酸钡2g可沉降硫酸1g.处理后还要搅拌一定时间,保温2h,使硫酸钡由分散细粒聚集成较大颗粒沉降,使副反应铬酸钡转变成硫酸钡粒子沉淀。利用虹吸法将沉降至槽底的硫酸钡吸出槽外,再经澄清后将吸出的铬液回流至镀铬槽内。在生产过程中,硫酸不要无根据地任意添加入铬槽中。因为在整个镀铬过程中只消耗铬酸,而硫酸仅作为镀铬的催化剂,一般不会消耗掉。仅随着铬酐在出槽时而附带出来少量硫酸,而当补充铬槽中的铬酐时,在铬酐中一般可能要有百分之零点几的硫酸作为杂质随之进人铬槽,可弥补硫酸的不足,数量上达到自动的平衡。一般补充至正常范围的铬酐可以不必刻意地补加硫酸。铬酸根离子(CrO2-4)是负离子,它不可能在负极上放电析出铬金属层。当在SO2-4 与三价铬(Cr3+)生成[Cr4O(SO4)4 · (H2O)4]2+,阳离子团到阴极表面,当离子放电后,硫酸根离子(SO2-)又回到阴极。


3. 三价铬Cr3+的作用和影响


  在新配的铬酸溶液中,在开始时没有Cr3+,不能生成前述的阳离子团,在镀铬溶液中当存在适量的硫酸时,使镀铬液的酸度为pH=3时,有碱式铬酸铬[Cr(OH)3·Cr(OH)CrO4]薄膜包在阴极表面上。当有三价铬化合物所组成的带正电荷的阳离子团,才能在阴极上放电,析出金属铬层。如果溶液中没有三价铬,形不成阳离子团来促使碱式铬酸铬的薄膜溶解,就镀不上铬。故三价铬的数量虽少,但作用很大。故在配好镀铬槽后,需要用电解的方法,在阴极上产生少量的三价铬,一般使Cr3+=3~5g/L,已足够起作用。过多反而有害。在镀铬过程中,Cr3+和H2SO4重回溶液中。


4. 电流密度


  在不锈钢抛光表面上,总是存在一层肉眼看不见的极薄的铬的氧化膜,在其上沉积的铬层会产生结合力不牢的现象。故在开始镀铬时,应先用小电流阴极活化,此时只产生氢气气泡,不在铬的析出电位之上,使不锈钢表面得到还原净化,存在的铬氧化膜被电解除去,电流密度应小于3A/d㎡,时间为1~2min.在此过程中,镀件在镀液中也受到预热,然后每1~2min内提升电流密度至5A/d㎡,在5~10min内,阶梯式提升电流5次,最后以高于正常电流,大约在50~60A/d㎡2之内冲击镀铬,时间为2~3min,使凹入部位都能镀上铬层,然后恢复至正常电流密度25~30A/d㎡,也可采取较大电流密度,但为防止边角烧焦,要采取辅助阴极加以保护。


5. 温度


  温度和电流密度之间有密切的关系,温度在60℃时,阴极电流密度为60A/d㎡,铬层硬度最好,约为维氏990HV.因此,在50~60℃之间,硬度变化不大。但温度大于65℃时,硬度开始下降至900HV.当温度高达70~75℃时,铬层失去光泽,呈乳白色,硬度也降低至600~700HV.所以温度宜保持在55~60℃.铬镀层由于硬度高,摩擦因数小,有良好的耐磨性,适应于模具板的要求。当电流密度为30~40A/d㎡2时,其维氏硬度也在1000HV左右。